黄仁勋：只需三四，中国将拥自主先进光刻机！
中国近年在技术自立方面的进展有目共睹，但迄今仍未能开发出与 ASML 水平相当的光刻设备。这一短板已经严重制约了国内半导体产业。不过，英伟达首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）认为， 中国只需再过三四年，就能开发出自己的先进光刻系统。 这些系统能先进到什么程度，仍有待观察。 黄仁勋在 All-In 播客采访中说：“ 他们会在 2030 年前做到。 2030 年就在眼前。理解中国，关键在于它非常擅长大批量生产。这只是时间问题 …… 所以两三年只是一瞬间，算不上什么。在他们看来，已经到了 。” 外媒认为， 黄仁勋一向对中国技术发展偏乐观。他常把中国人工智能产业说成 “ 紧跟 ” 美国前沿实验室，考虑到中国在人工智能上投入的资本规模，这一判断或许站得住脚。但落到中国半导体产业整体、尤其是光刻环节，他的判断可能过于乐观。 特别
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